AF TTK 005 PLM acquisition

タイトル (Dublin Core): AF TTK 005 PLM acquisition
内容記述／Description (Dublin Core): en Photomicrographs acquired at different magnifications.; jp さまざまな倍率で取得した顕微鏡写真。
INVESTIGATION DATE - 分析の日付 (Archaeometric Investigation Record Vocabulary): 西暦2019年11月3日
ACQUISITION / CREATION TYPE - 分析方法 (Archaeometric Investigation Record Vocabulary): en Polarized light microscopy; jp 偏光顕微鏡; polarized light microscopy
ACQUISITION / CREATION DETAILS - 分析詳細 (Archaeometric Investigation Record Vocabulary): en Polarized and cross polarized light microscopy of thin sections.
Each sample (fragment) was put in impregnating resin before the cut.
Mainly CEMEDINE (epoxy resin) was used for mounting the ground plane on glass slide.
OPTICAL MICROSCOPE
Nikon Eclipse Ci POL, lambda plate: 530nm
Magnification:
2x = 5 mm
4x = 2.5 mm
10x = 1 mm
40x = 0.5 mm; jp 薄切片の偏光および交差偏光顕微鏡。
各サンプル（断片）は、切断前に含浸樹脂に入れられました。
スライドガラスへのグランドプレーンの取り付けには、主にセメダイン（エポキシ樹脂）を使用しました。
光学顕微鏡
Nikon Eclipse Ci POL、ラムダプレート: 530nm
倍率：
2x = 5mm
4x = 2.5mm
10x = 1mm
40x = 0.5mm

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アイテム with "ARCHAEOMETRIC INVESTIGATION (some archaeometric data record) - 理化学的分析あり（リンクを含める）: AF TTK 005 PLM acquisition"
タイトル	クラス
AF TTK 005	Archaeological finding record

アイテム with "INPUT - 元となるデータなど: AF TTK 005 PLM acquisition"
タイトル	クラス
AF TTK 005 PLM processing and modeling	Data_processing_or_modeling_CR